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CRF等離子刻蝕機里通入的四氟化碳在高頻電離下產生的反應：
CRF等離子刻蝕機的基本要素關鍵分成清理、活化、改性（沉積）及蝕刻，完成這一些基本要素除對自放電方式方法和電極材料構造有規(guī)定外，加工工藝混合氣體的選用也是十分關鍵的，尤其是蝕刻基本要素。因此等離子設備完成蝕刻基本要素一般會用哪種混合氣體，又有什么基本的注意事項呢？
刻蝕一般又會被稱作蝕刻、咬蝕、凹蝕等，刻蝕的作用是運用常見的混合氣體搭配建立具備明顯蝕刻性的氣相等離子與物件表層的有機化合物基材發(fā)生化學變化，轉化成其他的例如一氧化碳,二氧化碳,H2O等混合氣體，進而做到蝕刻的目地。完成蝕刻所運用的混合氣體大部分為氟化物混合氣體，使用較多的是四氟化碳。四氟化碳是1種無色，無味的混合氣體，無毒性、不燃燒，但在濃度很高時具備麻痹的作用，因此在工業(yè)生產使用時存儲的器皿為專用型高壓氣瓶，所運用的調壓閥也為專用型調壓閥。
四氟化碳在被CRF等離子刻蝕機電離后會形成含氫氟酸成份的蝕刻性氣相等離子，能夠對各種各樣有機化學表層完成蝕刻及有機化合物清除，在晶圓制造、pcb線路板生產、光伏太陽能電池生產等行業(yè)領域中被廣泛運用。
真空CRF等離子刻蝕機電離四氟化碳混合氣體形成的等離子色彩為乳白色，眼睛觀察類似較稀的乳白色霧水，辨識度很高，比較容易與其他的混合氣體劃分。
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