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CRF plasma 等離子清洗機

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醫(yī)療導尿管在O2等離子設備的作用下會發(fā)生什么變化?

醫(yī)療導尿管在O2等離子設備的作用下會發(fā)生什么變化?
       醫(yī)療導尿管經過O2.等離子設備清洗后,去除導管表面毛細,粗粒變小,使表面光滑。這與表面接觸角的測定結果一致。導管刻蝕的根本原因涉及物理濺射和化學刻蝕。plasma體內含量極低的帶電活性種在材料表面處理中起著極其重要的作用。考慮到粒子運動速率遠高于離子旋轉速度,等離子中材料表面的電位相對于plasma體電位為負值(稱為漂移電位)。高速電子刺激反應分子,電離或斷裂成自由基碎片,而正離子不斷轟擊處理材料表面,顯著影響表面的化學反應。

等離子設備

       化學刻蝕是由于等離子中活性粒子的能量接近或略大于處理材料的分子化學鍵。這種能量水平的接近使得暴露在等離子中的導管材料分子的化學鍵容易中斷,或者小分子與基體分離,或者新的化學鍵導致交聯(lián)或自由基。化學刻蝕效果不明顯;從SEM根據分析結果,物理濺射效果明顯,物理濺射和化學刻蝕同時起作用。因此,可以推斷,氧等離子在導管表面處理的早期物理濺射中起著主導作用。導管表面O清洗等離子設備會導致表面刻蝕,使表面光滑,提高親水性。O2.等離子設備清洗形成的表面膜化學結構變化不大,避免了導管在實際應用中的副作用。

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